（一）超純水設備的用途：

1、超純材料和超純試劑的生產和清洗。


2、電子產品的生產和清洗。


3、電池產品的生產。


4、半導體產品的生產和清洗。


5、電路板的生產和清洗。


6、其他高科技精細產品的生產。


（二）純水設備的用途：


1、電廠化學水處理


2、電子、半導體、精密機械行業超純水


3、食品、飲料、飲用水的制備


4、小型純水站，團體飲用純水


5、精細化工、精尖學科用水


6、其他行業所需的高純水制備


7、制藥工業工藝用水


8、海水、苦咸水的淡化

二、水的電導率不同

1.超純水的出水水質：電阻率>15MΩ.cm


超純水水質分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

2.純水分為:工業純水和飲用純水工業純水:在25攝氏度中，1。普通純水:EC=1~10us/cm;2。高純水:EC=0.1~1.0us/cm;3。超純水:EC=0.1~0.055；飲用純水:EC=1~10 us/cm(國家標準)。


三、各種設備之間采用的工藝流程不同


（一）超純水設備的工藝流程為：


1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)。


2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)。


3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)。


4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)。


5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)。


（二）純水設備的工藝流程為：


1、采用離子交換方式

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點

2、采用兩級反滲透方式


原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點


3、采用EDI方式

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

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